日本化学会 第102春季年会 (2022)

講演情報

アカデミックプログラム[A講演]

18. 高分子 » 口頭A講演

[C203-2pm] 18. 高分子

2022年3月24日(木) 13:10 〜 15:40 C203 (年会オンライン)

座長:井本 裕顕、澤田 敏樹

14:30 〜 14:40

[C203-2pm-09] 親水化POSS誘導体を用いた高分子表面改質法の開拓

徳網 一陽1、鈴木 里奈1、永尾 真悠1、井本 裕顕1、中 建介1 (1. 京都工芸繊維大学)

[言語]日本語

キーワード:かご型シルセスキオキサン、有機無機ハイブリッド、表面偏析