日本化学会 第102春季年会 (2022)

講演情報

アカデミックプログラム[A講演]

20. 材料化学―基礎と応用 » 口頭A講演

[C204-2pm] 20. 材料化学―基礎と応用

2022年3月24日(木) 13:00 〜 15:40 C204 (年会オンライン)

座長:小林 洋一、中村 一希

14:10 〜 14:20

[C204-2pm-08] 液晶高分子修飾ナノロッドの配向におけるアスペクト比の影響

中野 果穂1、緒方 夏帆1、田口 大祐1、久保 祥一1、宍戸 厚1 (1. 東京工業大学)

[言語]日本語

キーワード:液晶高分子、ナノロッド、配向、表面修飾