日本化学会 第102春季年会 (2022)

講演情報

アカデミックプログラム[B講演]

20. 材料化学―基礎と応用 » 口頭B講演

[C205-2pm] 20. 材料化学―基礎と応用

2022年3月24日(木) 13:40 〜 15:40 C205 (年会オンライン)

座長:佐藤 良太、山本 一樹

15:20 〜 15:40

[C205-2pm-06] 金属イオンドープ高分子基板上での銅-チオラート配位高分子の作製およびパターン形成

鶴岡 孝章1、宮下 友里1、吉野 竜輝1、福岡 美海1、髙嶋 洋平1、赤松 謙祐1 (1. 甲南大学)

[言語]英語

キーワード:配位高分子、薄膜、パターニング