日本化学会 第102春季年会 (2022)

講演情報

アカデミックプログラム[A講演]

07. 無機化学 » 口頭A講演

[J401-3am] 07. 無機化学

2022年3月25日(金) 09:00 〜 11:40 J401 (年会オンライン)

座長:下嶋 敦、中戸 晃之

09:50 〜 10:00

[J401-3am-06] モノクロロおよびジクロロシランを用いた層状オクトシリケート層表面へのSi−H基の固定化

堀 暖奈1、野田 大貴1、彌富 昌1、小池 正和2、黒田 一幸1,2、下嶋 敦1,2 (1. 早大先進理工、2. 早大材研)

[言語]日本語

キーワード:層状ケイ酸塩、シリル化、Si–H基