日本化学会 第102春季年会 (2022)

講演情報

アカデミックプログラム[ポスター]

18. 高分子 » ポスター

[P3-3am] 18. 高分子

2022年3月25日(金) 09:40 〜 11:10 P3 (年会オンライン)

[P3-3am-14] 櫛型高分子液晶におけるフェニルベンゾアート側鎖末端基の液晶形成への影響

廣瀬 大祐1、中川 翔吾1、那谷 雅則2、氏家 誠司2 (1. 大分大院工、2. 大分大理工)

[言語]日本語

キーワード:櫛型高分子液晶、末端基、相転移、X線