[1E09-14] ペトロリオミクス(1)

[1E12] RDS/RFCC全体最適処理技術開発（第5報）

○田中 隆三¹、平松 義文¹、坂倉 圭¹、三浦 裕紀¹、原田 真吾¹ (1. 出光興産株式会社)

RDS/RFCC両装置を一体のものとして全体最適処理するための技術を開発した。RDSガード触媒層の安定運転を実現するため、新たに開発したCFDモデルを用いて触媒グレーディングを検討した。分解性に優れたDSAR製造と触媒活性の安定化を両立できる組成制御型RDS触媒システムを構築した。原料油分子情報も活用して、RFCC触媒の最適化を図った。実装置で検証運転を行い、開発技術の優位性を確認した。

キーワード：RDS, RFCC, CFD modelling