2015年第62回応用物理学会春季学術講演会

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一般セッション(口頭講演)

13 半導体 » 13.4 Siプロセス・配線・MEMS・集積化技術

[12a-A29-1~11] 13.4 Siプロセス・配線・MEMS・集積化技術

2015年3月12日(木) 09:00 〜 12:00 A29 (6A-204)

09:15 〜 09:30

[12a-A29-2] 脱水素無しのアモルファスSi薄膜に対するBLDA低抵抗化

〇若杉 智英1、安次富 卓哉1、岡田 竜弥1、野口 隆1、西方 靖2、太田 淳2、井上 和久3、山田 一雄3 (1.琉球大工, 2.(株)アルバック, 3.プロダクトサポート社)

キーワード:低抵抗化、結晶性、薄膜トランジスタ