2015年第62回応用物理学会春季学術講演会

講演情報

一般セッション(口頭講演)

8 プラズマエレクトロニクス » 8.0 Plasma Electronics English Session

[12a-D14-1~7] 8.0 Plasma Electronics English Session

2015年3月12日(木) 09:00 〜 10:45 D14 (16-503)

09:15 〜 09:30

[12a-D14-2] In-situ Monitoring of GaN Film in Process Plasma

〇DAISUKE OGAWA1, YOSHITAKA NAKANO1, KEIJI NAKAMURA1 (1.Chubu University)

キーワード:gallium nitride,etching,plasma-induced damage