2015年第62回応用物理学会春季学術講演会

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一般セッション(口頭講演)

13 半導体 » 13.2 探索的材料物性・基礎物性

[13a-A25-1~13] 13.2 探索的材料物性・基礎物性

2015年3月13日(金) 09:00 〜 12:30 A25 (6A-218)

11:15 〜 11:30

[13a-A25-9] 共スパッタリング法によるアモルファスSi/β-FeSi2複合薄膜の形成

〇(M1)澤田 真志1、中沢 公大1、勝俣 裕1 (1.明大理工)

キーワード：鉄シリサイド、アモルファスSi、スパッタリング