2015年第62回応用物理学会春季学術講演会

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一般セッション(口頭講演)

13 半導体 » 13.2 探索的材料物性・基礎物性

[14a-A25-1~11] 13.2 探索的材料物性・基礎物性

2015年3月14日(土) 09:00 〜 12:00 A25 (6A-218)

09:15 〜 09:30

[14a-A25-2] MBE法で形成したBaSiエピタキシャル膜/酸化膜界面の欠陥準位評価

〇武内 大樹1、Du Weijie1、高部 涼太1、都甲 薫1、原 康祐2、宇佐美 徳隆3, 4、末益 崇1, 4 (1.筑波大学院, 2.山梨大学, 3.名古屋大学, 4.JST-CREST)

キーワード:BaSi2、界面、欠陥準位