2015年第62回応用物理学会春季学術講演会

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一般セッション(口頭講演)

13 半導体 » 13.2 探索的材料物性・基礎物性

[14a-A25-1~11] 13.2 探索的材料物性・基礎物性

2015年3月14日(土) 09:00 〜 12:00 A25 (6A-218)

11:15 〜 11:30

[14a-A25-9] 真空蒸着法による導電性基板上への BaSi2薄膜の作製

〇(B)須原 貴道1、原 康祐2, 3、末益 崇2, 4、宇佐美 徳隆1, 2 (1.名古屋大, 2.JST-CREST, 3.山梨大, 4.筑波大)

キーワード:BaSi2、導電性基板、真空蒸着