2015年第62回応用物理学会春季学術講演会

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一般セッション(口頭講演)

13 半導体 » 13.4 Siプロセス・配線・MEMS・集積化技術

[14a-A29-1~11] 13.4 Siプロセス・配線・MEMS・集積化技術

2015年3月14日(土) 09:00 〜 12:00 A29 (6A-204)

09:30 〜 09:45

[14a-A29-3] プラズマ後処理によって高い仕事関数を有する微結晶窒化チタン膜

〇出貝 求1、中山 雅則1、原田 和宏1、芦原 洋司1、金山 健司1 (1.(株)日立国際電気)

キーワード:配線、プラズマ、仕事関数