一般セッション(口頭講演)
3 光・フォトニクス » 3.15 シリコンフォトニクス・集積フォトニクス
2021年3月17日(水) 09:15 〜 12:00 Z10 (Z10)
△：奨励賞エントリー
▲：英語発表
▼：奨励賞エントリーかつ英語発表
空欄：どちらもなし
09:15 〜 09:30
〇(M2)中島 雪暢1、庄司 雄哉1、武井 亮平2、水本 哲弥1、亀井 利浩2 (1.東工大、2.産総研)
スケジュール
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09:30 〜 09:45
〇立川 準1、大和 良隆1、國分 泰雄2、荒川 太郎1 (1.横浜国大院工、2.中部大)
スケジュール
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09:45 〜 10:00
〇(D)神谷 拓郎1,2、佐藤 洸1,2、横山 士吉1,2 (1.九大総理工、2.九大先導研)
スケジュール
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10:00 〜 10:15
〇劒持 進次郎1、藤方 潤一2、石川 靖彦1 (1.豊橋技科大、2.PETRA)
スケジュール
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10:15 〜 10:30
〇藤方 潤一1、小野 英輝1、中村 隆宏1 (1.光電子融合基盤技研)
スケジュール
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10:45 〜 11:00
〇北 翔太1,2、コン グアンウェイ3、野崎 謙悟1,2、前神 有里子3、大野 守史3、山本 宗継3、山田 浩治3、新家 昭彦1,2、納富 雅也1,2 (1.NTTﾅﾉﾌｫﾄﾆｸｽｾﾝﾀ、2.NTT物性研、3.産総研)
スケジュール
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11:00 〜 11:15
〇(DC)田之村 亮汰1、唐 睿1、種村 拓夫1、中野 義昭1 (1.東京大工)
スケジュール
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11:15 〜 11:30
〇(M2)宮武 悠人1、何 鐘培1、牧野 孝太郎2、富永 淳二2、宮田 典幸2、中野 隆志2、関根 尚希1、トープラサートポン カシディット1、高木 信一1、竹中 充1 (1.東大院工、2.産総研デバ技)
スケジュール
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11:30 〜 11:45
〇庄司 雄哉1、村井 俊哉1、水本 哲弥1 (1.東工大)
スケジュール
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11:45 〜 12:00
〇大野 修平1、トープラサートポン カシディット1、高木 信一1、竹中 充1 (1.東大院工)
スケジュール
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