一般セッション(口頭講演)
21 合同セッションＫ「ワイドギャップ酸化物半導体材料・デバイス」 » 21.1 合同セッションＫ 「ワイドギャップ酸化物半導体材料・デバイス」
2021年3月18日(木) 09:00 〜 11:30 Z33 (Z33)
△：奨励賞エントリー
▲：英語発表
▼：奨励賞エントリーかつ英語発表
空欄：どちらもなし
09:00 〜 09:15
〇古林 寛1、前原 誠2、酒見 俊之2、北見 尚久1,2、山本 哲也1 (1.高知工科大、2.住友重機械)
スケジュール
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09:15 〜 09:30
〇古林 寛1、前原 誠2、酒見 俊之2、北見 尚久1,2、山本 哲也1 (1.高知工科大、2.住友重機械)
スケジュール
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09:30 〜 09:45
〇渡辺 明1、Rahman Ashiqur1、駒田 めぐみ2 (1.東北大多元研、2.住友化学)
スケジュール
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09:45 〜 10:00
〇鯉田 崇1、Leonard Tutsch1,2、齋 均1、松井 卓矢1、Martin Bivour2、Martin Hermle2 (1.産総研、2.フラウンホーファーISE)
スケジュール
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10:00 〜 10:15
〇宮城 友昭1、高橋 芳朗1、秋本 恭喜1、園田 正樹1 (1.大分県産科技センター)
スケジュール
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10:30 〜 10:45
〇神原 陽一1,3、東 伸彦1、坂上 良介1、臼井 秀知2 (1.慶大物情、2.島根大総合理工、3.慶大スピンセンター)
スケジュール
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10:45 〜 11:00
〇堺 俊克1、今村 弘毅1、高木 友望1、峰尾 圭忠1、渡部 俊久1、佐藤 弘人1、相原 聡1 (1.NHK技研)
スケジュール
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11:00 〜 11:15
神寳 健太1、田中 大貴1、松村 俊宏1、片岡 大樹1、曲 勇作1、〇古田 守1、佐々木 大地2、川嶋 絵美2、霍間 勇輝2 (1.高知工大、2.出光興産)
スケジュール
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11:15 〜 11:30
〇井手 啓介1、笠井 悠莉華1、片瀬 貴義1、平松 秀典1,2、細野 秀雄2、神谷 利夫1,2 (1.東工大フロ研、2.東工大元素)
スケジュール
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