一般セッション(口頭講演)
3 光・フォトニクス » 3.7 レーザープロセシング
2021年3月19日(金) 13:30 〜 16:00 Z07 (Z07)
△：奨励賞エントリー
▲：英語発表
▼：奨励賞エントリーかつ英語発表
空欄：どちらもなし
13:30 〜 13:45
〇吉田 雅幸1、西端 樹1、松田 朋己1、伊藤 佑介2、杉田 直彦2、荒河 一渡3、廣瀬 明夫1、佐野 智一1 (1.阪大院工、2.東大院工、3.島大院工)
スケジュール
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13:45 〜 14:00
〇倉重 貴行1、水谷 彬1,2、中村 大輔1、池上 浩1,2、片山 慶太1 (1.九大シス情、2.九大ギガフォトン共同部門)
スケジュール
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14:00 〜 14:15
〇吉冨 恭平1、溝尻 瑞枝1 (1.長岡技科大)
スケジュール
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14:15 〜 14:30
〇渡辺 明1、Rahman Ashiqur1、駒田 めぐみ2 (1.東北大多元研、2.住友化学)
スケジュール
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14:30 〜 14:45
世古 匠1、〇松尾 繁樹1 (1.芝浦工大)
スケジュール
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15:00 〜 15:15
〇長谷川 智士1、藤本 正俊2、渥美 利久2、早崎 芳夫1 (1.宇都宮大、2.浜松ホトニクス)
スケジュール
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15:15 〜 15:30
〇高林 圭佑1、カイディール カマロン1、山口 誠1、富田 卓朗2、高橋 孝3、小林 洋平3 (1.秋田大理工、2.徳島大学、3.東京大学)
スケジュール
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15:30 〜 15:45
〇(D)島原 光平1、谷 峻太郎1、小林 洋平1 (1.東大物性研)
スケジュール
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15:45 〜 16:00
〇谷 峻太郎1、小林 洋平1 (1.東大物性研)
スケジュール
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