[16p-Z08-1~17] 3.8 光計測技術・機器

[16p-Z08-10] 量子光干渉断層撮影像におけるアーティファクト除去アルゴリズムの提案とその検証

〇堀野 智康¹、阿部 尚文¹、川口 蓉子¹、曹 博¹、岡本 亮¹、竹内 繁樹¹ (1.京大院工)

キーワード：二光子干渉、量子OCT、アーチファクト除去

量子光干渉断層撮影は周波数もつれ光子対間の二光子干渉を用いた断層撮影技術である。分散耐性があり高分解能であることから、医療・生命分野での応用が期待されている。一方、量子光干渉断層撮影では試料の反射経路間の量子干渉によって、２つの反射面の中間に偽の信号(アーティファクト)が現れるという問題があった。今回我々は、量子光干渉断層撮影像におけるアーチファクト除去アルゴリズムの提案とその検証を行った。