2021年第68回応用物理学会春季学術講演会

講演情報

一般セッション(口頭講演)

6 薄膜・表面 » 6.2 カーボン系薄膜

[18a-Z13-1~11] 6.2 カーボン系薄膜

2021年3月18日(木) 09:30 〜 12:30 Z13 (Z13)

岩崎 孝之(東工大)、徳田 規夫(金沢大)

11:30 〜 11:45

[18a-Z13-8] 高濃度ボロンドープ層を有するダイヤモンドMOSFETs:電流密度-1 A/mm及び出力電力密度3.6 W/mmの達成

浅井 風雅1、久樂 顕1、荒井 雅一1、鈴木 優紀子1、平岩 篤1、川原田 洋1,2 (1.早稲田大学、2.早大材研)

キーワード:ダイヤモンド、ボロンドープ、高周波MOSFET

FETの出力電力の向上手段として、電流値、耐圧の向上やオン抵抗の低減が有効である。Ⅱa(111)単結晶ダイヤモンド基板上に高濃度ボロンドープ層を有するALD-Al2O3ダイヤモンドMOSFETを作製し、ゲート幅拡張及びボロンドープ層が特性に与える影響を評価した。最大ドレイン電流密度-1.03 A/mm、出力電力密度3.6 W/mmを達成し、ボロンドープ層を有するデバイスの可能性を示唆した。