[18a-Z16-1~8] 7.3 微細パターン・微細構造形成技術

[18a-Z16-7] ビルトインレンズマスクによる三次元フォトリソグラフィ
(マスクパターンの最適化検討)

〇(B)大住 知暉¹、安田 雅昭¹、笹子 勝¹、平井 義彦¹ (1.阪府大工)

キーワード：フォトリソグラフィ、3次元、一括露光

一枚のマスクによる単純一括露光で三次元フォトリソグラフィを実現する期待されるビルトインレンズマスクについて、全空間中の結像強度分布と、目的とする三次元構造の光強度分布を比較し、その差を打ち消すように新たに複素振幅を調整したシードを配置することにより、マスクパターンの最適化を試みた。