The 68th JSAP Spring Meeting 2021

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Oral presentation

13 Semiconductors » 13.7 Compound and power electron devices and process technology

[19a-Z25-1~8] 13.7 Compound and power electron devices and process technology

Fri. Mar 19, 2021 9:30 AM - 11:45 AM Z25 (Z25)

Kenji Shiojima(Univ. of Fukui)

11:30 AM - 11:45 AM

[19a-Z25-8] Electrical Characteristics of Gated-Anode Diodes using GaN HEMT with Recessed Gate Structure

Hidemasa Takahashi1, Yuji Ando1, Momoe Shojima3, Akio Wakejima3, Jun Suda1,2 (1.Nagoya Univ., 2.Nagoya Univ. IMaSS, 3.Nagoya Institute of Technology)

Keywords:GaN, HEMT

レクテナの大電力高効率化に向けノーマリオフ型GaN HEMTを用いたゲーテッドアノード型ダイオード(GAD)を開発中である。埋め込みゲートリセス構造のGaN GADを作製し、電気的特性を調べた結果、4W/mmクラスの整流動作ができることを確認した。またワイドリセス構造に比較してIfおよびBVrが大きく改善することを示した。