2021年第68回応用物理学会春季学術講演会

講演情報

一般セッション(口頭講演)

3 光・フォトニクス » 3.6 超高速・高強度レーザー

[19p-Z06-1~12] 3.6 超高速・高強度レーザー

2021年3月19日(金) 13:30 〜 16:30 Z06 (Z06)

戸倉川 正樹(電通大)

14:15 〜 14:30

[19p-Z06-4] SiN導波路の分散制御による非常に簡便なキャリアエンベロープオフセット周波数検出

〇(B)川島 滉太1,2、石澤 淳1、高 磊3、徐 学俊1、土澤 泰4、相原 卓磨4、西川 正2、コン グァンウェイ3、山本 宗継3、山田 浩治3、小栗 克弥1 (1.NTT物性研、2.東京電機大、3.産総研、4.NTT先デ研)

キーワード:光周波数コム、スーパーコンティニューム光

精密加工,重水素シラン成膜,スポットサイズコンバータ設計の最適化及び,構造分散制御したSiN導波路に通信波長帯Erファイバーレーザーを光結合することにより,5 mm長のSiN導波路内で5オクターブ帯域以上の広帯域光発生とf-3f自己参照干渉が同時に行うことができ,非常に簡便かつ34 dBの高い信号対雑音比で光コムのキャリアエンベロープオフセット周波数検出に成功した.今後,光コムの安定化を行い報告する.