2021年第68回応用物理学会春季学術講演会

講演情報

一般セッション(口頭講演)

13 半導体 » 13.4 Si系プロセス・Si系薄膜・MEMS・装置技術

[19p-Z24-1~10] 13.4 Si系プロセス・Si系薄膜・MEMS・装置技術

2021年3月19日(金) 13:30 〜 16:15 Z24 (Z24)

角嶋 邦之(東工大)、曽根 正人(東工大)

15:30 〜 15:45

[19p-Z24-8] ミニマル全反射蛍光X線測定装置(TXRFテスター)の高いSN比等に関する評価

野田 周一1、小粥 敬成2、酒井 渉3、廣瀬 潤3、林 達也3、大西 佳那3、西里 洋3、クンプアン ソマワン1,2、原 史朗1,2 (1.産総研、2.ミニマルファブ推進機構、3.堀場エステック)

キーワード:全反射蛍光X線、金属膜厚計、微量分析

非単色の小型自然空冷型X線管を用いた高感度ハンディー型全反射蛍光X線(TXRF)分析装置を真空チャンバーに組み込んだ「ミニマルTXRFテスター」を開発した。本装置はTiNメタルゲート電極等の金属薄膜の膜厚計として最適化してあるが、超小型ながら検出感度が高く、汚染物質の微量分析にも適用が期待される。これを念頭にTXRF分析装置としての基本特性を評価した結果を示す。