15:15 〜 15:30
[1Dp08] ポリイミド上へのVO2薄膜成長と剥離後の電気的特性評価
本研究では石英及びガラス板上へ成長させたポリイミド膜(厚さ10 μm程度)上へVO2結晶薄膜を堆積し，ポリイミド膜の剥離前後におけるVO2の電気的特性について調べた．ポリイミドを基板より剥離することでフレキシブルなVO2薄膜を実現した．ガラス基板から剥離後も2桁以上の抵抗変化が見られた．
講演情報
表面工学・薄膜・半導体・磁気・電子・光デバイス材料・電子材料プロセス(SE・TF・EMP・MI・MS)
[1Dp01-13] 薄膜・表面工学・半導体・磁気・電子・光デバイス材料・電子材料プロセス
2021年11月3日(水) 13:30 〜 16:45 D会場 (金刀比羅)
座長:大坂 藍(大阪大学産業科学研究所)、後藤 哲也(東北大学)