2021年日本表面真空学会学術講演会

講演情報

表面工学・薄膜・半導体・磁気・電子・光デバイス材料・電子材料プロセス(SE・TF・EMP・MI・MS)

[1Dp01-13] 薄膜・表面工学・半導体・磁気・電子・光デバイス材料・電子材料プロセス

2021年11月3日(水) 13:30 〜 16:45 D会場 (金刀比羅)

座長:大坂 藍(大阪大学産業科学研究所)、後藤 哲也(東北大学)

16:30 〜 16:45

[1Dp13] 直流スパッタリング法により堆積された銀薄膜におけるマウンド状構造の形成

*草野 英二1 (1. 金沢工業大学)

直流マグネトロンスパッタリング法によりAg 薄膜を堆積し,微小構造形態と物性を観察した.高い温度の基板に堆積されたAg 薄膜においては,薄膜構造モデルにおいては説明されていなかった粒間に空間のあるマウンド状構造が形成された.粒の横方向の径は,基板温度とともに大きくなり,電気抵抗率も高くなった.空間のあるマウンド状構造の形成をAgの高い表面拡散係数と膜堆積中に蓄積される応力の緩和に相関し,説明した.