[2Ep01-04] 真空科学技術

[2Ep04S] 超高真空スパッタ法で作製したZrおよびTi非蒸発型ゲッタ薄膜の評価

*土田 遼介¹、ミヤ モハメッド　シュルズ¹、中野 武雄¹、菊地 貴司²、間瀬 一彦^2,3 (1. 成蹊大学大学院理工学研究科、2. 高エネルギー加速器研究機構、3. 総研大)

Zr, Tiなどの非蒸発型ゲッタ (NEG) は超高真空中での加熱により活性化し、残留ガスを吸着・排気する材料である。スパッタ法でZrを製膜した鋸歯形状基板を200℃で24時間ベーキングした際のH₂に対する排気速度は検出限界以下であったが、真空容器が10^-8 Pa台に到達したことからH₂O, COは排気していると思われる。講演では10^-7 Pa台でスパッタしたTi薄膜の排気性能についても報告する。