Materials Research Meeting 2021

講演情報

Oral Session

H. Innovative Materials Processing for Sustainable Society » [H-2] Plasma-Based Synthesis, Processing and Characterization of Materials for Energy and Environment

[H2-O8] Slot 08

2021年12月16日(木) 09:00 〜 12:00 Room E (G416+417)

Chair: Kenji Ishikawa

11:15 〜 11:30

[H2-O8-07] Conductive carbon film deposition by microwave plasma with high voltage biasing

Ikumi Hamaguchi1, *Hansin Bae1, Kensuke Sasai2, Haruka Suzuki1,2, Hirotaka Toyoda1,2,3 (1. Department of Electronics, Nagoya Univ. (Japan), 2. cLPS, Nagoya Univ. (Japan), 3. National Institute for Fusion Science (Japan))

キーワード:conductive carbon, surface-wave plasma, high-voltage bias, large-area deposition, high deposition rate

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