Materials Research Meeting 2021

講演情報

Poster Session

H. Innovative Materials Processing for Sustainable Society » [H-2] Plasma-Based Synthesis, Processing and Characterization of Materials for Energy and Environment

[H2-PR18] Slot 18

2021年12月16日(木) 18:30 〜 20:30 H2-PR18 (G403-404)

18:30 〜 20:30

[H2-PR18-26] Effect of rf bias on the film property of amorphous silicon oxide films deposited by plasma enhanced chemical vapor deposition

*Akihiro Yamamoto1, Kohei Abe1, Iori Nagao1, Michihiro Otaka1, Daisuke Yamashita1, Kunishiro Kamataki1, Takamasa Okumura1, Naho Itagaki1, Kazunori Koga1,2, Masaharu Shiratani1 (1. Kyushu Univ. Info. sci. and Electrical Engineering (Japan), 2. National Inst. of Natural Sci. (Japan))

キーワード:Plasma CVD, CCP, rf bias

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