[7p-PB4-1~12] 13.2 探索的材料物性・基礎物性

[7p-PB4-8] ヘリコン波プラズマスパッタ法によるSi (111)基板上BaSi₂膜の作製

〇松野 賢司¹、髙部 涼太¹、都甲 薫¹、末益 崇^1,2 (1.筑波大院、2.JST-CREST)

キーワード：半導体、スパッタリング