[P] P176~P191

[P185] 斜入射スパッタリング法により作製したTiO₂薄膜の構造評価

*陳 宇聡¹、井上 泰志²、高井 治³ (1. 千葉工業大学（学生）、2. 千葉工業大学、3. 関東学院大材料)

キーワード：斜入射スパッタリング法、離散的柱状構造、二酸化チタン、光触媒活性材料、薄膜

斜入射スパッタリング法を用いてTiO₂薄膜を作製した．成膜圧力が離散的柱状構造の形成に大きく影響するとの報告がされている．そこで，成膜圧力をパラメータとし，作製したTiO₂薄膜の構造評価を行った．