日本金属学会2022年秋期(第171回)講演大会

講演情報

ポスターセッション

6.材料プロセシング » 材料プロセシング

[P] P192~P204

2022年9月20日(火) 15:30 〜 17:00 FITアリーナ

15:30 〜 17:00

[P201] ドロップチューブプロセスを用いたGaSb系磁性半導体微粒子の単結晶形成能と結晶成長に対するIV族添加効果

*中山 恵1、永山 勝久1 (1. 芝浦工大)

キーワード:ドロップチューブプロセス、単結晶形成能、結晶成長、III-V族化合物半導体、IV族元素

本研究はGaSb系n型単結晶磁性半導体の創製を目指し、IV族元素GeまたはSnを添加したGaSb3元磁性半導体微粒子試料を作製し、単結晶形成能と結晶成長を解析することを目的とした。

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