日本金属学会2024年秋期(第175回)講演大会

講演情報

一般講演

6.材料プロセシング » 固相プロセス 固相・溶接プロセス

[G] 実装・はんだ・ろう付け・接着

2024年9月20日(金) 09:00 〜 11:45 P会場 (全学教育推進機構講義A棟3階A302)

座長:荘司 郁夫(群馬大学)、オ ミンホ(東京工業大学)

09:00 〜 09:15

[383] 結合力モデルを用いた半導体パッケージ再配線層中の絶縁膜 / 再配線界面における剥離解析

*濵田 悠成1、苅谷 義治2 (1. 芝浦工大(院生)、2. 芝浦工大)

キーワード:Semiconductor Package、Dielectric film、Finite Element Method、Cohesive Zone Model、Critical energy release rate

仮想き裂を必要としない結合力モデルを用い,半導体パッケージ再配線層中の絶縁膜 / 再配線界面の剥離発生箇所を推定した.