日本分析化学会第72年会

講演情報

(口頭講演)

3:レーザー分光分析

レーザー分光分析 1

2023年9月15日(金) 13:15 〜 14:15 D会場 (熊本城ホール)

座長:吉永 勝法(九州大学大学院芸術工学研究院)

13:30 〜 13:45

[3D-102] O/Wエマルションにおける界面活性剤濃度とクリーミング挙動との関係

○土田 涼華1、内村 智博1 (1. 福井大院工)

キーワード:エマルション、質量分析

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