2013年第74回応用物理学会秋季学術講演会

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一般セッション(ポスター講演)

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[17p-P2-1~49] 8 プラズマエレクトロニクス(ポスター)

2013年9月17日(火) 13:30 〜 15:30 P2 (デイヴィス記念館 )

13:30 〜 15:30

[17p-P2-21] VHF-PECVDで形成したSiNx膜中の化学結合経時変化

小林信一 (東京工芸大工)

キーワード:窒化シリコン膜,化学的気相成長,プラズマ成膜