[19p-B4-1~21] 13.5 Siプロセス技術

△ [19p-B4-10] 表面プラズモン共鳴を用いたラマン分光法によるSi微小領域の異方性二軸応力評価

^○岩崎竜平，永田晃基，富田基裕，小瀬村大亮，小椋厚志 (明大理工)

キーワード：ラマン分光法,歪Si,LSPR