2013年第74回応用物理学会秋季学術講演会

講演情報

一般セッション(口頭講演)

13.半導体A(シリコン) » 13.5 Siプロセス技術

[20a-B4-1~11] 13.5 Siプロセス技術

2013年9月20日(金) 09:00 〜 12:00 B4 (TC2 1F-106)

10:45 〜 11:00

[20a-B4-7] ミニマルレーザ加熱装置を用いた熱酸化プロセスのメカニズム

遠江栄希2,谷島孝2,千葉貴史1,2,寺田昌男1,2,池田伸一2,3,ソマワン クンプアン2,3,原史朗2,3 (坂口電熱1,ミニマルファブ技術研究組合2,産総研3)

キーワード:ミニマルファブ,酸化,Minimal