[27a-PB4-1~25] 21.1 合同セッションK「ワイドギャップ酸化物半導体材料・デバイス」

[27a-PB4-8] 水溶液プロセスによる Ga 添加 ZnO エピタキシャル膜の作製 (9:30 AM ～ 11:30 AM)

^○三宅正男，福井宏史，土井俊哉，平藤哲司 (京大エネ科)

キーワード：ZnO、ドーピング