[28p-B2-1~13] 7.3 リソグラフィ

[28p-B2-8] △ノボラック系ポジ型レジストにおける溶解抑制剤のエステル化率とリソグラフィー特性の関係 (3:30 PM ～ 3:45 PM)

^○齊藤誠二¹，松田卓也¹，石黒啓太¹，高橋聖司¹，河野昭彦¹，関口淳²，谷口克人³，田中初幸³，堀邊英夫¹ (金沢工大¹，リソテックジャパン²，AZエレクトロニックマテリアルズ³)

キーワード：lithographic properties、novolak resists、esterification rate