[29p-PB1-1~20] 13.3 絶縁膜技術

[29p-PB1-19] ▲Internal Photo-emission法によるGeO₂/Ge界面における伝導帯バンドオフセットの決定 (1:30 PM ～ 3:30 PM)

^○Wenfeng Zhang^1,2，西村知紀^1,2，長汐晃輔^1,2，喜多浩之^1,2，鳥海明^1,2 (東大院工¹，JST-CREST²)

キーワード：バンドオフセット、界面