[19a-PB4-1~9] 14.1 探索的材料物性

[19a-PB4-8] イオンビームスパッタ蒸着法によるEr₂O₃高配向薄膜の作製

^○藤田将弥^1,2，山口憲司²，朝岡秀人²，毛偉³，近田拓未⁴，鈴木晶大³，寺井隆幸³ (茨城大¹，原子力機構²，東大³，静岡大⁴)

キーワード：sputter etching,ion irradiation,thin film