2014年第75回応用物理学会秋季学術講演会

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一般セッション(口頭講演)

13．半導体A（シリコン） » 13.2 絶縁膜技術

[19p-A17-1~11] 13.2 絶縁膜技術

2014年9月19日(金) 14:00 〜 17:00 A17 (E308)

16:30 〜 16:45

[19p-A17-10] Kr/O2プラズマを用いたGeO2/Ge界面特性の改善

○中谷友哉，新井田淳平，岩崎好孝，上野智雄 (東京農工大工)

キーワード：Ge,Kr