[19p-A17-1~11] 13.2 絶縁膜技術

△ [19p-A17-4] ALD形成Al₂O₃/GeO₂/p-Geの電気的特性に及ぼす熱処理効果の検討

^○梁池昂生¹，横平知也¹，山田大地¹，王谷洋平¹，関渓太²，佐藤哲也²，福田幸夫¹ (諏訪東京理科大¹，山梨大²)

キーワード：熱処理