[20a-A19-1~12] 13.3 Siプロセス・配線・MEMS・集積化技術

[20a-A19-11] 集光型赤外線加熱炉を用いたハーフインチシリコンCVD装置(III)

^○李寧¹，羽深等¹，池田伸一²，石田夕起²，原史朗² (横国大院工¹，産総研²)

キーワード：Minimal manufacturing