2014年第61回応用物理学会春季学術講演会

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一般セッション(口頭講演)

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[19a-D2-1~11] 16.2 プロセス技術・デバイス

2014年3月19日(水) 09:30 〜 12:30 D2 (D113)

10:15 〜 10:30

[19a-D2-4] シリコンインクを用いたアモルファスSiC膜の作製

増田貴史1,2,申仲栄1,3,高岸秀行1,3,大平圭介1,2,3,下田達也1,2,3 (北陸先端大1,北陸先端大GDRC2,JST-ALCA3)

キーワード:シリコンインク