2014年第61回応用物理学会春季学術講演会

講演情報

一般セッション(口頭講演)

13.半導体A(シリコン) » 13.3 Siプロセス・配線・MEMS・集積化技術

[19p-E14-1~21] 13.3 Siプロセス・配線・MEMS・集積化技術

2014年3月19日(水) 13:15 〜 18:45 E14 (E302)

14:45 〜 15:00

[19p-E14-7] ミニマル硫酸過水洗浄装置を用いた汚染ウェハの洗浄プロセス

松田苑子1,2,後藤昭広1,2,奥田修史2,ソマワンクンプアン2,3,原史朗2,3 (プレテック1,ミニマルファブ技術研究組合2,産総研3)

キーワード:minimal fab,洗浄,硫酸過水