2015年 第76回応用物理学会秋季学術講演会

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シンポジウム(口頭講演)

シンポジウム » Ge-CMOSはどこまで進んでいるのか

[13p-4C-1~9] Ge-CMOSはどこまで進んでいるのか

2015年9月13日(日) 13:15 〜 17:00 4C (432)

座長:右田 真司(産総研),最上 徹(PETRA)

14:00 〜 14:15

[13p-4C-3] SiGeおよびGe基板に対する洗浄と表面処理

〇高橋 弘明1、和田 昌之1、吉田 幸史2、Sebaai Farid3、Holsteyns Frank3、Mertens Paul3、佐藤 雅伸1、白川 元1 (1.SCREEN、2.SCREEN SPE Germany、3.imec)

キーワード：洗浄、表面処理、Ge