[14p-1C-1~16] 13.4 Siプロセス・配線・MEMS・集積化技術

[14p-1C-11] 熱フィラメント法による大気圧下での水素ラジカル発生とその濃度測定

〇岡本 裕二^1,2、Dahmani Fatima Zohra³、堤 大耀⁴、石垣 隆正⁴、角谷 正友¹ (1.物材機構、2.筑波大、3.USTO-MB、4.法政大)

キーワード：水素ラジカル、熱フィラメント、シーメンス法

シリコン太陽電池の原料である高純度シリコン(Si)は、トリクロロシラン(SiHCl₃)を水素ガス(H₂)で還元することで製造される(シーメンス法)。しかし実際にはテトラクロロシラン(SiCl₄)を生成するSiHCl₃の熱分解が優先的に進むため、Si収率が約25%と低いことが課題である。我々はこれまで、熱フィラメント法及びプラズマ法で発生させた水素ラジカルが還元反応を促進し、Si収率の向上を提案・検討してきた。本研究では熱フィラメント法を用い大気圧で水素ラジカルを発生させ、反応装置に導入された水素ラジカル濃度を定量的に測定した。