2015年 第76回応用物理学会秋季学術講演会

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一般セッション(口頭講演)

6 薄膜・表面 » 6.3 酸化物エレクトロニクス

[14p-2H-1~15] 6.3 酸化物エレクトロニクス

2015年9月14日(月) 13:45 〜 17:45 2H (222)

座長:吉松 公平(東工大),打田 正輝(東大)

14:30 〜 14:45

[14p-2H-4] 二段階PLD法によるSi添加α-Fe2O3薄膜の形成と電気・磁気特性の制御

〇関 宗俊1、石田 丈1、那須 英和1、Sathe Ameya1、村田 哲也1、川辺 駿佑1、山原 弘靖1、田畑 仁1 (1.東大工)

キーワード:酸化鉄、パルスレーザー堆積法