PDF ダウンロード スケジュール 6 いいね! 0 17:45 〜 18:00 △ [15p-4F-17] 原料気体の高炭素濃度化によるヘテロエピタキシャルダイヤモンドの高速成長 〇藤田 高吉1、児玉 英之1、鈴木 一博2、澤邊 厚仁1 (1.青学大理工、2.トウプラスエンジニアリング) キーワード:ダイヤモンド膜、プラズマCVD