Yuuki Ishidzuka¹, Yuuki Ohashi¹, Hironori Katagiri², Koichiro Oishi², Yasuhiro Tamayama¹, Takahiro Kato¹, 〇Kanji Yasui¹ (1.Nagaoka Univ. Technol., 2.Nagaoka. Nat. Coll. Technol.)

14:45 〜 15:00

▲ [12p-D8-7] Spinel Oxide Flexible Film Thermistors

〇Tomohiko Nakajima¹, Tetsuo Tsuchiya¹ (1.AIST)

15:00 〜 15:15

▼ [12p-D8-8] Electron Transport Mechanism of Oxygen-doped Zinc Nitride Thin Films

〇(D)Xiang Cao¹, Atsushi Sato¹, Yoshihiko Ninomiya¹, Naoomi Yamada¹ (1.Chubu Univ.)

休憩（15:15 〜 15:30）

15:30 〜 15:45

△ [12p-D8-9] [薄膜・表面分科内招待講演]透明強磁性鉄薄膜

〇千原真志¹、角谷直紀¹、藤本亮祐¹、中村伊吹¹、畑野敬史¹、飯田和昌¹、生田博志¹ (1.名大工)

15:45 〜 16:00

△ [12p-D8-10] ストロンチウム置換ハイドロキシアパタイト薄膜の作製

〇(B)齋藤絢香¹、橋本典也²、西川博昭¹ (1.近大生物理工, 2.大阪歯科大)

16:00 〜 16:15

△ [12p-D8-11] パルスレーザ堆積法においてレーザビームの強度分布がハイドロキシアパタイト薄膜の化学組成に及ぼす影響

〇(M1)長谷川司¹、橋本典也²、西川博昭³ (1.近大院生物理工, 2.大阪歯科大, 3.近大生物理工)

16:15 〜 16:30

△ [12p-D8-12] 浸漬離膜すくい上げ法による多孔基板上への自立Au薄膜の作製

〇宮本優¹、山野将史¹、藤井裕真¹、須田善行¹、滝川浩史¹、田上英人²、西内満美子³、榊泰直³、近藤公伯³ (1.豊橋技科大, 2.北九州高専, 3.原子力機構)

16:30 〜 16:45

△ [12p-D8-13] 一軸圧縮下の熱処理による機能性酸化物薄膜の固相結晶化挙動

〇野沢靖久¹、譚ゴオン¹、船迫友之¹、金子智²、松田晃史¹、吉本護¹ (1.東工大　総理工, 2.神奈川県産技セ)

16:45 〜 17:00

△ [12p-D8-14] 化学気相蒸着法による六角形NbS₂フレークの合成

〇柳瀬隆¹、渡邊翔¹、翁夢婷¹、長浜太郎¹、島田敏宏¹ (1.北大工)

17:00 〜 17:15

△ [12p-D8-15] 金属メッシュ配線への窒化Al系光吸収薄膜の応用検討

〇志田陽子¹、越智元隆¹、後藤裕史¹、釘宮敏洋¹、奥野博行²、金丸守賀² (1.(株)神戸製鋼所, 2.(株)コベルコ科研)

休憩（17:15 〜 17:30）

17:30 〜 17:45

[12p-D8-16] ミスト CVD 法による光透過性銅薄膜の作製

〇上野仁希¹、池之上卓己¹、三宅正男¹、平藤哲司¹ (1.京大院エネ科)

17:45 〜 18:00

[12p-D8-17] TiO₂光学薄膜の機械的特性

〇羽尾衛¹、室谷裕志¹ (1.東海大工)

18:00 〜 18:15

[12p-D8-18] アクリル基板上へ形成した光学薄膜の密着性の研究

〇田島直弥¹、室谷裕志¹、松本繁治²、本多博光² (1.東海大工, 2.(株)シンクロン)

18:15 〜 18:30

[12p-D8-19] ランタンとチタンの複合酸化物(H4)光学薄膜の内部応力の経時変化

〇中野良太¹、室谷裕志¹ (1.東海大院工)

一般セッション(ポスター講演)

[13p-P6-1~6] 6.4 薄膜新材料

2015年3月13日(金) 16:30 〜 18:30 P6 (総合体育館)

△：奨励賞エントリー
▲：英語発表
▼：奨励賞エントリーかつ英語発表
空欄：どちらもなし

+全てマイスケジュールに登録

16:30 〜 18:30

▼ [13p-P6-1] Flexible flow through transition metal doped TiO₂ nanotubular film for photocatalytic applications

〇(DC)Amir Abidov^1,², Bunyod Allabergenov¹, Feiyi Xiao¹, Cuili Chu¹, Xing Jin¹, Yong Bae Kim², Min Kyu Song⁴, Cho-Hyun Jeon⁴, Hitoshi Habuka³, Sungjin Kim¹ (1.Kumoh Nat. Inst. Tec, 2.Gumi Elec. Res. Inst, 3.Yokohama univ., 4.Korea Tex. Dev. Inst)

16:30 〜 18:30

▲ [13p-P6-2] Comprehensive study about ZnO film growth on (001) Si substrate by rf-sputtering

〇Dongcheol Oh¹, Kangbok Kim¹, Sooman Lee¹ (1.Defense Sci. & Tech. Hoseo University)

16:30 〜 18:30

▲ [13p-P6-3] Electron transport of ZnO films on semi-insulating, p-type, and n-type (001) Si substrates

〇Dongcheol Oh¹, Sooman Lee¹, Kangbok Kim¹ (1.Defense Sci. & Tech. Hoseo University)

16:30 〜 18:30

[13p-P6-4] ペチーニ法で作製したBi過剰BiFeO_xターゲットを用いて成膜したBiFeO₃薄膜の作製と評価

〇王春¹、大島佳祐¹、稲葉隆哲¹、宋華平¹、渡部雄太¹、永田知子¹、橋本拓也²、高瀬浩一¹、山本寛¹、岩田展幸¹ (1.日大理工, 2.日大文理)

16:30 〜 18:30

[13p-P6-5] MoSi₂-Si複合体薄膜の抵抗率とHall係数の温度依存性

木谷僚介¹、〇下薗宏祐¹、佐藤祐喜¹、吉門進三¹ (1.同志社大学理)

16:30 〜 18:30

[13p-P6-6] 金属-EDTA錯体由来の急速加熱冷却に耐えうるY₂O₃膜の合成

外山歩¹、白井友之¹、佐藤彰紀¹、淡エンキン¹、〇小松啓志¹、中村淳^1,²、戸田育民¹、大塩茂夫¹、村松寛之¹、齋藤秀俊¹ (1.長岡技科大, 2.中部キレスト)

セッション一覧

6 薄膜・表面 » 6.4 薄膜新材料

[11a-D8-1~10] 6.4 薄膜新材料

[12a-D8-1~10] 6.4 薄膜新材料

[12p-D8-1~19] 6.4 薄膜新材料

▲ [12p-D8-1] [Young Scientist Presentation Award Speech] Thermoplasmonic control of Marangoni flow around a micro bubble

▲ [12p-D8-2] Nanoscale measurements of the work function in nanocrystalline TiN and amorphous films by multimode scanning probe microscopy and spectroscopy

▲ [12p-D8-3] Measurements of absolute densities of Cu, Zn, Sn and S atoms in magnetron sputtering plasma employing a Cu2ZnSnS4 target

▲ [12p-D8-4] Characterization of Thick AlN Templates Grown on Micro-circle Patterned-Si Substrates

▲ [12p-D8-5] Low-temperature fabricating uniform and controllable ZnO Nanorods

▲ [12p-D8-6] Influence of N2O doped buffer layer on the properties of ZnO thin films on glass substrates grown by catalytic-reaction-assisted chemical vapor deposition

▲ [12p-D8-7] Spinel Oxide Flexible Film Thermistors

▼ [12p-D8-8] Electron Transport Mechanism of Oxygen-doped Zinc Nitride Thin Films

△ [12p-D8-9] [薄膜・表面 分科内招待講演]透明強磁性鉄薄膜

△ [12p-D8-10] ストロンチウム置換ハイドロキシアパタイト薄膜の作製

△ [12p-D8-11] パルスレーザ堆積法においてレーザビームの強度分布がハイドロキシアパタイト薄膜の化学組成に及ぼす影響

△ [12p-D8-12] 浸漬離膜すくい上げ法による多孔基板上への自立Au薄膜の作製

△ [12p-D8-13] 一軸圧縮下の熱処理による機能性酸化物薄膜の固相結晶化挙動

△ [12p-D8-14] 化学気相蒸着法による六角形NbS2フレークの合成

△ [12p-D8-15] 金属メッシュ配線への窒化Al系光吸収薄膜の応用検討

[13p-P6-1~6] 6.4 薄膜新材料

▼ [13p-P6-1] Flexible flow through transition metal doped TiO2 nanotubular film for photocatalytic applications

▲ [13p-P6-2] Comprehensive study about ZnO film growth on (001) Si substrate by rf-sputtering

▲ [13p-P6-3] Electron transport of ZnO films on semi-insulating, p-type, and n-type (001) Si substrates

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▲ [12p-D8-3] Measurements of absolute densities of Cu, Zn, Sn and S atoms in magnetron sputtering plasma employing a Cu₂ZnSnS₄ target

▲ [12p-D8-6] Influence of N₂O doped buffer layer on the properties of ZnO thin films on glass substrates grown by catalytic-reaction-assisted chemical vapor deposition

△ [12p-D8-9] [薄膜・表面分科内招待講演]透明強磁性鉄薄膜

△ [12p-D8-14] 化学気相蒸着法による六角形NbS₂フレークの合成

▼ [13p-P6-1] Flexible flow through transition metal doped TiO₂ nanotubular film for photocatalytic applications