[14a-A29-1~11] 13.4 Siプロセス・配線・MEMS・集積化技術

[14a-A29-7] レーザーアニールによる高性能パワー素子のプロセス検討

〇陳 訳¹、野口 隆¹、マッツァムト フルビオ²、ヒュエット カリム² (1.琉球大学工, 2.スクリーンセミコンダクタ(株))

キーワード：レーザーアニール、浅接合、接合特性