一般セッション(口頭講演)
6 薄膜・表面 » 6.3 酸化物エレクトロニクス
09:00 〜 09:15
〇杉崎 裕一1、本山 寛大1、枝元 一之1 (1.立教大理)
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09:15 〜 09:30
〇坂井 穣1、ネグレスク ベアトリス1、バヴァンコッフ マキシム1、リムレット パトリス1、ヴォルフマン ジェローム1、舟窪 浩2 (1.トゥール大GREMAN、2.東工大物院)
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09:30 〜 09:45
〇小川 真一1、飯島 智彦1、神吉 輝夫2、田中 秀和2 (1.産総研ナノエレ、2.阪大産研)
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09:45 〜 10:00
〇佐藤 賢太1、星野 寛明1、モハメッド シュルズ ミヤ1、沖村 邦雄1 (1.東海大院工)
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10:00 〜 10:15
〇矢嶋 赳彬1、西村 知紀1、鳥海 明1 (1.東大マテ)
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10:15 〜 10:30
〇福地 厚1、有田 正志1、片瀬 貴義2、太田 裕道2、高橋 庸夫1 (1.北大院情報、2.北大電子研)
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10:30 〜 10:45
〇塩田 忠1、久保 朋也1、西山 昭雄1、櫻井 修1、篠崎 和夫1 (1.東工大物質理工)
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10:45 〜 11:00
〇前島 壮1、杉江 敏幸1、山下 馨1、野田 実1 (1.京工繊工芸)
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11:00 〜 11:15
〇(D)森山 拓洋1、山崎 隆浩2、肥田 聡太1、大野 隆央2、岸田 悟1,3、木下 健太郎1,3 (1.鳥取大工、2.物材機構、3.TiFREC)
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11:15 〜 11:30
〇西 佑介1、篠倉 弘樹1、木本 恒暢1 (1.京大院工)
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11:30 〜 11:45
〇阪口 敦1、山岡 弘貴1、伊藤 敏幸1、岸田 悟1,2、木下 健太郎1,2 (1.鳥取大工、2.TiFREC)
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